高低溫循環(huán)裝置是實驗室及工業(yè)中用于為外部設備提供寬范圍溫度控制循環(huán)液的核心設備，可實現(xiàn)-80℃至200℃的精準控溫，兼具加熱與制冷功能，替代傳統(tǒng)“單一加熱"或“單一制冷"設備。

核心工作原理

1. 雙向控溫：通過內(nèi)置的壓縮機制冷系統(tǒng)實現(xiàn)低溫控制，通過電加熱管實現(xiàn)高溫控制，兩者協(xié)同工作，根據(jù)設定溫度自動切換或調節(jié)功率。

2. 循環(huán)控溫：內(nèi)置循環(huán)泵將恒溫后的導熱介質（如導熱油、防凍液）輸送至外部設備（如反應釜、儀器模塊），吸收或釋放熱量后回流，形成閉環(huán)循環(huán)；搭配PID智能控制系統(tǒng)，控溫精度可達±1

關鍵特點

- 控溫范圍寬：覆蓋深冷到高溫區(qū)間，無需頻繁更換設備，可滿足同一實驗從低溫反應到高溫蒸餾的全程控溫需求。

- 升溫降溫快：采用高效換熱結構與大功率加熱/制冷組件，升降溫速率可達5℃/min~15℃/min（視型號而定），縮短實驗準備時間。

- 安全性能強：標配超溫報警、過載保護、低液位保護（防干燒），部分型號帶壓力保護與漏電保護，適配高壓反應場景。

典型應用

- 為雙層玻璃反應釜、高壓反應釜提供全程控溫，適配聚合反應、催化反應等需頻繁切換溫度的實驗。

- 為材料測試設備、電子元件測試臺提供模擬高低溫環(huán)境，驗證產(chǎn)品耐溫性能。

- 為制藥行業(yè)的結晶工藝、蒸餾工藝精準控溫，提升產(chǎn)物純度與收率。